近日，中山市博顿光电科技有限公司（以下简称“博顿光电”或“公司”）完成超亿元人民币B+轮融资，本轮投资方为毅达资本、中信建投资本、友谊时光、达武创投、南控基金，IO资本担任独家财务顾问。
博顿光电凭借在离子束核心技术领域持续强化的竞争壁垒、多个行业应用全面突破的商业化成果，以及在聚变能源、量子科技等未来产业，和航空航天、光通信、泛半导体等前沿新质产业的稀缺卡位，不断吸引众多头部机构关注和加持。本轮融资将为公司在离子束核心技术研发以及下游行业解决方案拓展提供强力资金支撑，是资本市场对博顿光电产品技术和商业化进展的有力认可，也是公司迈向IPO的重要里程碑。
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打破垄断，离子束超精密设备引领者
自2016年成立以来，博顿光电在离子束超精密工艺上已有十年技术积累，是国家高新技术企业、国家级“专精特新”小巨人企业、国家重点小巨人企业、知识产权示范企业。公司专注于全国产自主可控离子源和离子束超精密工艺设备，是业内稀缺的掌握核心部件离子源-离子束整机装备-应用工艺方案全链条核心技术并实现自研自制的企业，产品矩阵横跨高性能离子源、离子束微纳加工整机装备、工艺解决方案开发服务等。
离子束是当前最广泛应用的微纳加工技术手段之一，加工精度可以达到亚纳米甚至原子级超高精度，具有材料不受限、物理效应多、能量范围广、加工精度高、制造自由度灵活等特点，在镀膜、刻蚀、清洗、抛光、表面改性等领域具有显著优势，应用覆盖千行百业，是聚变能源、量子科技、光通信等前沿科技产业发展所不可或缺的微纳加工技术，市场空间可达数百亿元。离子束工艺装备开发需要多学科深度耦合，系统复杂性强、工程化know-how多且依赖技术+经验组合积累，且有专利与工艺秘密双重保护，技术壁垒极高，这导致过去高端离子源及离子束设备的国产化率不足10%，亟待国产化突破。
博顿光电多项产品与技术为国内首创，近年来已解决多个战略关键领域的“卡脖子”问题，实现了大批量国产替代，持续打破国外垄断，一直致力于成为国内离子束超精密设备领域的领军企业。公司在产品品类、知识产权数量、行业场景覆盖、工艺应用案例等多方面优势明显，已经在可控核聚变、量子科技等蓬勃发展的未来产业新兴领域，以及精密光学、航空航天、光通信、半导体等新质生产力领域多点开花，成功导入多家行业头部客户并实现批量供货。
02
前沿科技上游“卖铲人”，助力高精尖战略产业实现自主可控
博顿光电是可控核聚变超导材料、量子科技、光通信等未来产业的核心工艺设备供应商，战略地位稀缺且业务快速增长，产品同时也已经广泛应用于精密光学、泛半导体、航空航天、新型显示等新质产业，构成坚实的业绩基本盘。得益于下游应用领域的蓬勃发展和离子束技术的加速渗透，近年来公司营收年增长率达50%以上。
在可控核聚变领域，磁约束路线和惯性约束路线下的诸多核心部件及材料制备，离子束超精密加工是不可或缺的关键加工设备。
磁约束聚变装置中，高温超导带材是实现高场强磁体的不可替代材料——单台聚变装置需耗用数千至数万公里带材，全球供需严重失衡，核心设备产能扩张迫在眉睫。在第二代高温超导带材（REBCO体系）的制备工艺中，采用IBAD（离子束辅助沉积）设备镀氧化镁种子层是不可绕过的关键工序，无论超导层采用PLD（脉冲激光沉积）、MOCVD（金属有机化学气相沉积）还是MOD（有机溶剂涂覆）技术路线，全球已公认形成共识并已实现工艺路线收敛的是只能通过离子束才能形成种具备双轴织构的种子层晶格结构，而离子源及IBAD设备是核心灵魂和关键卡点。博顿光电是目前国内少有的具备超导带材IBAD离子源及整套镀膜设备完整供货能力的厂商，全面实现对进口产品的国产替代，已经向行业头部客户大批量供货，并已成功导入国内几乎所有高温超导带材企业，在该领域的市场占有率几乎100%。
惯性约束聚变装置中，单台装置就需要数万件的超大口径和超高性能光学元件，其原子级精度塑形、无缺陷强激光膜层等是超精密光学加工的极端挑战。而离子束溅射IBS、离子束辅助沉积IAD、离子束抛光修形IBF、离子束刻蚀IBE是该领域不可或缺且应用越来越广泛的关键工艺手段。博顿光电的高性能离子源已在该领域广泛应用，IBSD大口径离子束溅射镀膜设备已经实现全国产自主可控突破，打破国外厂家垄断和禁运限制。博顿光电依托国家级重大专项已经与该领域链主龙头客户深度合作，共同深耕和突破离子束工艺关键技术，挑战离子束原子级极端加工卡点，服务国家战略任务，延伸高端应用领域，未来可期。
束溅射IBS、离子束辅助沉积IAD、离子束抛光修形IBF、离子束刻蚀IBE是该领域不可或缺且应用越来越广泛的关键工艺手段。博顿光电的高性能离子源已在该领域广泛应用，IBSD大口径离子束溅射镀膜设备已经实现全国产自主可控突破，打破国外厂家垄断和禁运限制。博顿光电依托国家级重大专项已经与该领域链主龙头客户深度合作，共同深耕和突破离子束工艺关键技术，挑战离子束原子级极端加工卡点，服务国家战略任务，延伸高端应用领域，未来可期。
在量子科技领域，量子计算、量子精密测量、量子通信的快速推进，对器件加工精度提出了前所未有的极端要求。在超高反射率腔镜制备、量子芯片铌酸锂波导刻蚀等关键工序中，离子束镀膜与刻蚀工艺具有不可替代性——IBSD（离子束溅射沉积）工艺可稳定实现ppm级超低光学损耗，远优于传统镀膜路线，相同材料体系下光学损耗比传统设备低两个数量级以上；IBE（离子束刻蚀）设备则在铌酸锂光子芯片精细加工中展现出传统ICP（等离子体刻蚀）工艺无法比拟的优势。博顿光电是国内率先承担国家级量子科技专项的离子束设备厂商，已与该领域顶级研究单位和多家头部企业建立深度合作关系，围绕原子光钟、引力波探测、光腔衰荡系统、光量子计算器件等核心应用场景，开展了大量工艺试验与验证积累。伴随量子技术产业化进程加速，公司深厚的工艺积累正在持续转化为可期的确定性机遇。
在光通信领域，光模块由800G向1.6T及更高速率升级带来全新材料体系与更高规格的薄膜工艺需求，比如在光模块中的激光芯片、调制器件、探测器件、以及窄带滤光片、薄膜酸锂波导等无源光器件不仅需求量暴增，而且性能参数倒逼技术架构和加工工艺迅速升级。博顿凭借IBS/IBD在薄膜超低损耗、光谱参数超高精度、超高耐受性能等方面的工艺优势，以及IBE/RIBE在酸锂等新型化合物材料高精度刻蚀方面的差异化能力，已在光通信领域多家头部企业完成工艺导入与订单落地及设备交付，规模化商业合作正在加速落地。
在泛半导体领域，公司高性能离子源已成功实现滤波器芯片、多品类MEMS等细分场景的批量国产替代，已经通过了国外头部半导体设备厂家的严格工艺验证和供应商资格认定，成为国内率先进入半导体领域并获得客户持续复购的离子源厂商。同时，博顿IBD离子束镀膜机、IBE离子束刻蚀机在紫外光刻机及量检测仪器关键零部件制备的特色制程中亦已完成核心工艺验证和订单落地。
目前，博顿光电已获批承担四项国家级重大科技专项，承担近10项省市级科技计划项目并高质量通过验收。密集的国家级专项获批，不仅是国家对博顿光电核心技术实力的客观印证和最高级别背书，更表明公司的研发方向与国家前沿产业战略高度契合，公司产品已深度嵌入国家在前沿产业核心战略方向的技术攻关路径，具备持续获得国家资源加持的系统性优势。
“一代设备，一代工艺，一代产品。”博顿光电专注深耕离子束核心技术，正从“国产替代”走向“国产引领”乃至“国产颠覆”，从精密光学、航空航天的基本盘出发，向光通信、泛半导体、新型显示等增量高地全面进击，再到可控核聚变、量子科技等未来产业的提前卡位，逐步跃升为横跨镀膜、刻蚀、修形、注入等多工艺的离子束超精密设备及工艺制造综合解决方案引领者。
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